在半导体生产和制*工业中, 对空气的洁净度要求较高。典型的工作环境中, 每立方英尺空气中含有500000个粒子, 而半导体生产的相当新要求是每立方英尺空气中只有1 个粒子。因此, 工作间需要用经过高效过滤器过滤的洁净空气不断地循环清洗。为保持HEPA 过滤器的洁净和寿命, 还需要几段效率较低的预滤器联合使用。不同环境的工厂对不同的空气质量的要求差别很大。装有排烟罩和污染控制设备的工厂需要补充大量的空气, 如果这些工厂所在地区环境空气受到污染, 那么在将补充的空气分布到工作场所之前必须**行过滤。
对于工厂、车间排放的废气,要求相当严格的是毒性。某些重金属如汞、砷、铬、铍等毒性很大, 其排放限制非常严格。在空气毒性方面, 美国和德国已经通过了新的更严格的立法。执行新的立法后, 空气毒性的限制由原来的20mg/m3 (标准) 降低到010004mg/m3 (标准)。为达到这一目标, 工厂需要更**的高效过滤器以除去亚微粒子。工业用洁净室要求连续有效地去除粒径更小的粒子。HEPA 过滤器一度是效率相当高的过滤器, 现在ULPA高效过滤器则是效率相当高的过滤器, 以后更高效率的新一代过滤器也将得以开发应用。微细玻璃纤维过滤介质是过滤器介质的主要选择, 但膜和静电增强介质已向该领域渗透, 并获得部分应用。
